韦仕华的个人简历
更新日期：2016-03-19
学历：本科 工作经验：5-10年 浏览：次
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韦仕华的个人简历
更新日期：2016-03-19
学历：本科 工作经验：5-10年 浏览：次 |
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| 基本信息 | ||||
| 真实姓名： | 韦仕华 | 性别： | 男 | |
| 年龄： | 36 岁 | 身高： | 168CM | |
| 婚姻状况： | 已婚 | 户籍所在： | ||
| 最高学历： | 本科 | 工作经验： | 5-10年 | |
| 联系地址： | 浏览次数： | 次 | ||
| 刷新时间： | 2016-03-19 | 简历等级： | 普通 | |
| 求职意向 | |
| 最近工作过的职位： | 2年以上高精度光学抛光经验 |
| 期望岗位性质： | 全职 |
| 期望工作地： | 广东省/南山区 |
| 期望月薪： | 3000~5978元/月 |
| 期望从事的岗位： | 光学加工 |
| 期望从事的行业： | 光学工程相关 |
| 技能特长 | |
| 技能特长： | '有颗不管做什么都 ；有责任的 ；心。能吃苦耐劳。做事细心。容易与他人相处，对上级的 ；安排服从。 缺点喜欢管理与自己工作相关他人的 ；事，但是 ；现在慢慢改正。 ' |
| 教育经历 |
| 工作经历 | |
| 昂纳信息技术【深圳】有限公司 - 抛光技术员 | |
| 起止日期： | 2008年6月至0年0月 |
| 企业名称： | 昂纳信息技术【深圳】有限公司 |
| 从事职位： | 抛光技术员 |
| 业绩表现： | Interl抛光-------｛精度在 ；500纳米---300纳米｝【2年的 ；工作经验】 硅片抛光-------｛精度在 ；100纳米--50纳米｝【2年的 ；工作经验】 BS抛光 ；【1年 ；的工作经验】 平面镜抛光 粗磨 。精磨。抛光 Inter ；leawer DPSK/DQPSK ；补偿硅片 wave ；length ；locker |
| 企业介绍： | 光精加 |
| 培训经历 | |
| 没有填写培训经历。 |
| 联系方式 |