4月22日，由中国科协新技术开发中心、中国国际光电博览会组委会、深圳市光学光电子行业协会主办的2024中国（成都）国际精密光学暨机器视觉技术应用大会在成都环球中心天堂洲际大饭店开幕。
大会共计两天，今日会议包含“赋能新业态，超精微纳光学技术创造无限可能”、“纳米压印光刻的今天和明天—看微纳制造技术应用及产业化” 两个专题。
专题一：赋能新业态，超精微纳光学技术创造无限可能
上午场会议出席嘉宾包括中国科学院光电技术研究所特聘研究员，中国光学学会光学制造专委会范斌秘书长、中山大学物理学院副院长 董建文教授、以及与光科技、新思科技、匕令科技等知名企业高层。聚焦微纳光学前沿技术领域，深度探讨超表面及多维光场调控、纳米压印超透镜阵列、超表面产业化的实践与探索、芯片化光谱成像技术等前沿热门话题。
专题二：“纳米压印光刻的今天和明天”—看微纳制造技术应用及产业化
下午的会议邀请到湖南大学粤港澳大湾区创新研究院院长 段辉高教授、香港理工大学工业及系统工程学系/超精密加工技术国家重点实验室 王文奎博士以及天仁微纳、光舵微纳、EULITHA、贝瑞光电等知名企业高层，探讨极端微纳制造、纳米压印光刻、位移泰伯光刻技术、超光滑抛光技术等热门话题。
活动现场
到场的参会观众，包括微纳元器件厂商、超精密加工设备厂商、半导体材料/加工设备厂商、机器视觉厂商、镜头模组厂商、以及光学应用终端企业等等。
与此同时，会场周围设置展览展示区，共有100多家企业/品牌展出产品。展品范围覆盖：
新型微纳元器件、超精密加工设备、半导体加工设备、工业相机、机器视觉检测系统及设备、光学成像测试测量仪器、光学镜头及摄像模组、光学镀膜材料及设备等，多角度展示精密光学上下游新产品新技术。
现场特设展示区
专题一：赋能新业态，超精微纳光学技术创造无限可能
嘉宾分享
主办方欢迎致辞
杨耕硕 Eric Yang
中国国际光电博览会（CIOE）秘书长
杨总表示：“CIOE中国光博会作为始终深耕光电行业，助推国家光电产业发展的专业平台，我们希望能够充分发挥中国光博会在光电产业中的平台和纽带作用，增强光电行业互动，进一步促进精密光学及机器视觉产业的快速发展及其应用领域的融合。共同努力，实现行业发展的关键性突破！“
“微波光子学、生物光子学、纳米光子学和拓扑光子学是几个典型的微纳光学的前沿领域，这些领域的研究成果，不仅推动了微纳光学的发展，也为其他相关领域的研究提供了新的思路和方法。微纳加工技术作为衡量国家高端制造业水平的重要标志之一，面对未来世界发展的舞台，进一步提升微纳技术的发展速度已迫在眉睫。
机器视觉技术使得工作设备能够“看到”它正在进行的操作，并进行快速的决策，机器视觉与人工智能逐渐融合，引领工业4.0的过渡，拥有着不可估量的市场前景。“
成都市博览局致辞
高敏
高敏副局长表示：“近年来，成都依托中科院光电技术研究所等丰富的科研资源和优秀的产业基础，大力发展光电产业，取得了显著的成果。目前，成都已经聚集了一批优质的光电产业企业和研究机构，形成了完整的产业链和生态圈，同时，成都深入推进会展产业建圈强链，强化会展与产业的一体化发展，赋能企业，积极为重点企业、重点行业搭建展示和合作交流的平台，推动产业链向上下游延伸，促进相关产业的高质量发展。我们热忱地期盼更多的企业家将投资兴业的目光投向成都，到成都产业区，企业内去走走看看，感受成都美好的发展机遇和无限的可能。”
基于单片衍射元件的成像技术研究
范斌
中国科学院光电技术研究所 特聘研究员
范秘书长重点介绍了基于端到端的消色差谐衍射透镜设计方法。以成像链路各环节的传输和响应特性为研究对象，创新性提出基于衍射元件的光学—算法协同设计新思路，解决衍射元件色差大、非近轴条件下像差复杂等困扰问题，扩展了衍射光学元件设计与应用的新维度。
范秘书长表示“单片衍射元件的成像具备高科技、高效能和高质量的特征。我们希望在机器视觉未来蓬勃发展的机遇下，能够把这个技术进一步拓展到偏振光谱、深度和相位等方面。也希望和大家联手进一步推动单片衍射元件成像的技术发展，作为新质生产力推动产业发展。”
芯片化光谱成像技术的发展趋势和应用前景
王宇
与光科技的代表从行业当前三大痛点：体积大、价格高以及成像缓慢出发，重点介绍了计算光谱这一技术路线。计算光谱将传统的技术难点转嫁到算法和算力上，突破传统成像的技术限制，从而实现从不完整的物理测量中，尽可能多的去恢复待测物的信息。计算重建算法，进一步推动了基于超表面、量子点、纳米线等新型光谱成像技术涌现。
此外，王总表示“当前许多方案都将探测器阵列直接和CMOS集成。
主要有四个方面的优势：一、能够实现晶圆级的制备技术；二、具有较高的集成度，将光子器件和电子器件集成在同一个硅片上；三、成本上很有优势；四、也可以复用现有的CMOS工具来实现设计流程的简化。”
纳米压印超透镜阵列用于近眼集成成像光场显示
董建文
报告以“纳米压印超透镜阵列用于近眼集成成像光场显示“为题，分享了团队在纳米压印超透镜方面的研究心得。主要介绍了在微纳超表面与计算显示成像的相关工作，以及纳米压印以及近眼光场显示方面的应用。
董教授提出：“超表面的光场调控精度高、光场调控自由度高，并且完全与现有的半导体制造工艺兼容，有着其独特的优势。而纳米压印能够满足大面积的需要。超表面技术与纳米压印进行结合，能够往更高精度、更大面积、更低成本的方向发展。”
从设计到半导体制程：全面探索超透镜创新仿真流程
刘惠卿
报告讲述了最前沿的超透镜设计方法，以及考量了半导体加工的工作流程。刘总表示：“不同的超透镜的设计工具可以帮助我们在设计的时候更容易，进入的门槛更低。如果考虑到制造工艺把半导体跟光学结合在一起的话，在设计初期的时候就可以考虑到更低制造成本的工艺技术。而且新思制造意识的超原子库，也可以帮助我们在第一次的设计就达到正确的目标。”
超表面在产业化的探索和实践：红外已来，未来可见
钱紫衡
报告以“超表面在产业化的探索和实践：红外已来，未来可见”为题，从超表面相对于传统透镜，甚至于衍射透镜的优势对比出发，阐述了Alpha Cen在超表面技术产业化所做的努力，以及在近红外到可见光波段，在传感、测距到成像等领域的应用探索。
专题二：“纳米压印光刻的今天和明天”—看微纳制造技术应用及产业化
嘉宾分享
极端微纳制造及光学应用
段辉高
段院长以“极端微纳制造及光学应用”为题，从精密制造的本质出发，探讨光学制造未来的发展趋势。同时，也从产业需求牵引以及学术前沿牵引的角度，分享了团队目前在探索的超构材料与器件。例如：微型滤光片阵列、液晶调控动态超构表面、多维信息探测用平面透镜等。
段院长表示“光学精密制造主要是通过我们的光学手段来完成，精密测量也需要通过光学手段来实现。不管是现在的量子技术、生物科技、生物芯片等新兴产业，还是未来产业，这些新质生产力都是高度依赖于我们现在光学精密制造或者光学精密元件。当前我们的制造参数愈发的极端化。与此同时，多维结构以及多维材料的需求，都对制造出了大量的挑战。光学精密制造最终肯定会达到原子尺度与精度的制造要求，从而达成量子功能与性能的目标。
高精度对位压印技术与高精度步进压印技术在微纳制造中的应用
史晓华
报告介绍了纳米压印技术、步进及套刻纳米压印技术，以及其在半导体方面的应用及相关优势。史总表示：“压印是一种低成本的微纳图形复制技术。可以在低成本的情况下做大量纤维非常小的结构，这是它主要优势。但它是工艺、设备、耗材三要素必须结合的方案型技术。”
在步进及对位纳米压印技术应用方面，史总提到当前如AR模板，超透镜模板等的拼接制作上有几个难点需要攻克：一、图案传递的保真性；二、拼接位置的精度；三、良品率的控制等。
全国产大口径离子束设备在微纳光学中的应用
易洪波
报告以“全国产大口径离子束设备在微纳光学中的应用”为主题，从离子束流操控原理、工艺设备方案和离子束镀膜、刻蚀、减薄、抛光、应力释放等工艺机理方面，全面介绍离子束设备及其关键零部件离子源的全国产化解决方案。
易总指出，离子束微纳加工应用场景非常广泛，优势突出，具有增、减、改三大性能。可有效的解决微纳光学领域的一些难题，包括大口径、曲面或者特殊材料，在超薄、超低吸收、超高均匀性等方面都有一定的优势。
位移泰伯光刻技术：一种光电应用的批量生产解决方案
王涛
北京优利赛尔科技有限公司EULITHA 中国区销售总监
王总以“位移泰伯光刻技术：一种光电应用的批量生产解决方案”为题，带来前沿光刻技术分享。该技术基于DTL技术，主要针对于光电领域，比如说二维的周期性结构应用，具有大视场、高景深、高分辨的特点。作为新的图案设计工具，DTL技术具备更灵活的图案加工能力。有大面积纳米周期图案需求的领域，在光的产生、传导、 调控、 探测等领域都有广阔的应用前景。
纳米压印光刻：微纳光学结构加工解决方案
冀然 青岛天仁微纳科技有限责任公司 董事长
报告以“纳米压印光刻：微纳光学结构加工解决方案”为题，阐述了纳米压印光刻的几大优点：一、成本低廉，可在很便宜的设备条件下，实现很高的结构精度；二、具有结构多样性，可实现三维的光学结构；三、材料选择限制小，可以用玻璃作为结构的载体，直接在表面压印出光学结构，形成可以用于消费级的器件。这些优势都决定了纳米压印光刻在光学领域的应用。冀总还指出，目前纳米压印光刻的主要市场其中之一是消费类产品，例如手机的人脸识别、3D摄像的光学器件屏幕指纹识别、车载光学AR HUD等。
超精密加工技术及其应用
王文奎 博士
超精密加工技术之加工精度可以达至亚微米级的形状精度和纳米级的表面粗糙度,它是当今科技创新的重要支撑技术之一，在光电子学、机电一体化、光学、通讯、生物医学工程等领域都有广泛应用。
本次报告王老师以“超精密加工技术及其应用”为题，介绍了团队在超精密加工技术中的单点金刚石加工的一些研究工作，具体涉及一些非球面表面、微纳结构表面、自由曲面表面等在多种材料上的加工实现，及其在新型光电产品中的应用。
超光滑抛光技术及应用探索
张旭川 研究员
国家科技专家库 专家
成都贝瑞光电科技股份有限公司 董事长
报告从超光滑抛光技术的科学背景出发，介绍了超光滑抛光技术发展现状和趋势。
张总表示：“随着国家发展硬核科技，超光滑抛光技术+超光滑表面光学元件会得到越来越多的重视和应用。特别是最近几年，国内对这方面的需求明显增加，而且出现在不同的领域。那怎么实现多技术的融合，特别是怎么用AI智慧制造，如何在材料、精密设备、精密检测、精密镀膜各方面进行协同创新，都是当前需要深度思考的问题。”
DUV光刻级合成石英研制进展
钱宜刚
南通晶体有限公司 总经理
（会议现场由马俊逸先生代为演讲）
南通晶体代表提出：合成石英具有极佳的光谱特性，优良的耐高温性能，化学稳定性强，热稳定性好，电绝缘性好。可应用于遥感卫星用窗口和镜头、核技术用石英镜头、激光干涉仪等。当前紫外合成石英性能需求为以下六点：一、紫外高透过率；二、耐辐射性能；三、低金属杂质含量；四、低羟基含量；五、低应力双折射；六、高光学均匀性。
感谢以上嘉宾的精彩演讲和高质量内容产出！本次大会共计举办两天，明天我们即将带来：机器视觉与人工智能擦出的火花—机器视觉赋能工业应用 和 “遇”见光学薄膜未来：光学薄膜设计、制造及应用专题演讲及讨论，敬请期待！
参会咨询：
戴女士 0755-88242572